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標題: AISI 316L不銹鋼熱成長氧化膜抗蝕特性之研究
作者: 葉麟村
Ye, Lin-Cun
Contributors: 顏秀崗
S. K. Yen
國立中興大學
關鍵字: Interface-Controlled;AISI 316L
熱成長氧化膜;不銹鋼耐蝕性;電化學動態極化分析;SEM 表面形態觀察;界面控制
日期: 1994
Issue Date: 2012-09-11 11:35:31 (UTC+8)
Publisher: 機械工程研究所
摘要: 本研究乃探討熱成長氧化膜對316L不銹鋼耐蝕性之影響,在此藉由電化學動態極化
分析、SEM 表面形態觀察等,以明暸其抗蝕特性,另外並藉由TGA 動態氧化機構分
析、氧化層元素縱深分布(AES) 及OM觀察等,以對其氧機構有深層之認知。
實驗顯示在氧化初期是界面控制(Interface-Controlled)之反機構,低溫氧化表層
以富鐵氧化物為主,隨著氧化溫度升高,鉻氧化速率亦隨著增加,藉由熱重差分析
(TGA) 及歐傑元素縱深分析(AES) 可求得鉻氧化速率比鐵快之臨界溫度,因此高溫
氧化表層會逐漸析出鉻氧化物。後續之氧化成長是擴散控制(Diffusion Controlle
d)之反應機構,此階段之氧化是以各離子於氧化膜中之擴散為主導之反應。
較低溫氧化(300°C-400°C) 呈現較佳之抗蝕特性,乃因氧化物層下金屬底材含鎔
量較高,且其氧化膜較緻密及均勻,較高溫之氧化膜(500°C-700°C) ,其表層含
鉻量隨溫度升高兩提高,但此溫度屬316L不銹鋼敏化溫度範圍,使底材出現鉻乏區
而形成沿晶腐蝕現象,逐漸喪失不銹鋼之抗蝕特性,因此富鉻氧化膜並非影響抗蝕
特性之絕對因素。
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