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標題: (Applied Surface Science,254(19):6177-6181)Exploring Width Effect on Performance Enhancement in NMOSFETs with Silicon-Carbon Alloy Stressor and Tensile Stress Silicon Nitride Linear
作者: Shu-Tong Chang;Wei Ching Wang;Jacky Huang;Shu-Hui Liao;Chung-Yi Lin
Contributors: 國立中興大學物理系
關鍵字: Silicon-carbon alloy;Stress;Mobility;MOSFET
日期: 2008-07
Issue Date: 2010-01-21 17:11:30 (UTC+8)
Publisher: Amsterdam,Netherlands:Elsevier Science Publishers B. V.
Relation: Applied Surface Science, Volume 254, Issue 19, Page(s) 6177-6181.
Appears in Collections:[依資料類型分類] 期刊論文
[依教師分類] 林中一
[依教師分類] 林中一

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