English  |  正體中文  |  简体中文  |  Items with full text/Total items : 43312/67235
Visitors : 2077131      Online Users : 3
RC Version 5.0 © Powered By DSPACE, MIT. Enhanced by NTU/NCHU Library IR team.
National Chung Hsing University Institutional Repository - NCHUIR > 工學院 > 光電工程研究所 > 依資料類型分類 > 學術性活動資料 >  (2000 IEDMS Symposium A,p285-p288)High crystallinity and large grain size c-Si:H films deposition by ECR-CVD

Please use this identifier to cite or link to this item: http://nchuir.lib.nchu.edu.tw/handle/309270000/66301

標題: (2000 IEDMS Symposium A,p285-p288)High crystallinity and large grain size c-Si:H films deposition by ECR-CVD
作者: Y. L. Jiang;S. H. Chen;L. H. Chen;K. S. Lin;W. H. Wu;C. H. Wu;Y. S. Liao;L. H. Chang
Contributors: 江雨龍
Yeu-Long Jiang
國立中興大學光電工程研究所
關鍵字: High crystallinity;large grain size;c-Si:H films deposition;ECR-CVD
日期: 2000-12
Issue Date: 2010-03-30 10:22:10 (UTC+8)
Relation: 2000 IEDMS Symposium A, Page(s) 285-288.
Appears in Collections:[依資料類型分類] 學術性活動資料

Files in This Item:

There are no files associated with this item.



 


學術資源

著作權聲明

本網站為收錄中興大學學術著作及學術產出,已積極向著作權人取得全文授權,並盡力防止侵害著作權人之權益。如仍發現本網站之數位內容有侵害著作權人權益情事者,請權利人通知本網站維護人員,將盡速為您處理。

本網站之數位內容為國立中興大學所收錄之機構典藏,無償提供學術研究與公眾教育等公益性使用。

聯絡網站維護人員:wyhuang@nchu.edu.tw,04-22840290 # 412。

DSpace Software Copyright © 2002-2004  MIT &  Hewlett-Packard  /   Enhanced by   NTU/NCHU Library IR team Copyright ©   - Feedback