English  |  正體中文  |  简体中文  |  Items with full text/Total items : 43312/67235
Visitors : 2078386      Online Users : 23
RC Version 5.0 © Powered By DSPACE, MIT. Enhanced by NTU/NCHU Library IR team.
National Chung Hsing University Institutional Repository - NCHUIR > 工學院 > 光電工程研究所 > 依資料類型分類 > 學術性活動資料 >  Aluminum induced Crystallization of Hydrogenated Amorphous Silicon Films at Low Temperature

Please use this identifier to cite or link to this item: http://nchuir.lib.nchu.edu.tw/handle/309270000/66308

標題: Aluminum induced Crystallization of Hydrogenated Amorphous Silicon Films at Low Temperature
作者: Y. L. Jiang;M. C. Lee
Contributors: 江雨龍
Yeu-Long Jiang
國立中興大學光電工程研究所
關鍵字: Aluminum;Amorphous;Crystallization
日期: 1998-11
Issue Date: 2010-03-30 10:23:35 (UTC+8)
Publisher: 台南市:國立成功大學;台北市:台灣電子材料與元件協會
Relation: 1998 IEDMS,AP-32:243
Appears in Collections:[依資料類型分類] 學術性活動資料

Files in This Item:

There are no files associated with this item.



 


學術資源

著作權聲明

本網站為收錄中興大學學術著作及學術產出,已積極向著作權人取得全文授權,並盡力防止侵害著作權人之權益。如仍發現本網站之數位內容有侵害著作權人權益情事者,請權利人通知本網站維護人員,將盡速為您處理。

本網站之數位內容為國立中興大學所收錄之機構典藏,無償提供學術研究與公眾教育等公益性使用。

聯絡網站維護人員:wyhuang@nchu.edu.tw,04-22840290 # 412。

DSpace Software Copyright © 2002-2004  MIT &  Hewlett-Packard  /   Enhanced by   NTU/NCHU Library IR team Copyright ©   - Feedback