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National Chung Hsing University Institutional Repository - NCHUIR > 工學院 > 光電工程研究所 > 依資料類型分類 > 專書 >  (Amorphous and Microcrystalline Semiconductor Devices,Vol.II:613-640)Ch13 Resonant Tunneling,Hot Electron Generation and Random Telegraphic Noise in Amorphous Double Barrier Structures

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標題: (Amorphous and Microcrystalline Semiconductor Devices,Vol.II:613-640)Ch13 Resonant Tunneling,Hot Electron Generation and Random Telegraphic Noise in Amorphous Double Barrier Structures
作者: H. L. Hwang;Y. L. Jiang
Contributors: J. Kanicki
國立中興大學光電工程研究所
關鍵字: Resonant Tunneling;Hot Electron Generation;Random Telegraphic Noise;Amorphous Double Barrier Structures
日期: 1992
Issue Date: 2010-03-30 10:29:05 (UTC+8)
Publisher: Boston,USA:Artech House
Relation: Amorphous and Microcrystalline Semiconductor Devices,Vol.II, Page(s) 613-640.
Appears in Collections:[依資料類型分類] 專書

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